全球硅抗反射涂层市场报告分析：预计2031年全球市场规模将达到1.70亿美元--QYResearch

抗反射涂层（ARC）是指施加到光致抗蚀剂的底部或顶部的涂层。 它是由高分子树脂、染料、热酸发生剂、溶剂等组成，ARC包括SiARC、BARC和TARC。

硅抗反射涂层（SiARC）是一种以硅材料为基础的光学功能涂层。 借由在矽基板表面建构特定的结构或薄膜，利用光干涉的原理，减少光的反射损失，进而提升光的穿透率或光子吸收效率。 它的核心目标是最小化硅衬底表面的反射率，这广泛应用于存储器和逻辑电路。

根据QYResearch最新调研报告显示，预计2031年全球硅抗反射涂层市场规模将达到1.70亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为8.04%。

全球范围内，硅抗反射涂层主要生产商包括Nissan Chemical Industries、JSR、Honewell、Shin-Etsu Chemical、Dupont等，其中前五大厂商占有大约91.5%的市场份额。

目前，全球核心厂商主要分布日本、美国等地。

就产品应用领域而言，目前是最主要的是在逻辑芯片上的应用，占据大约占60%的份额。

硅抗反射涂层是一种应用于逻辑光刻的硅基薄膜材料。 其核心功能是在光刻胶与硅片表面之间形成一层低反射层，以减少图案转移过程中深紫外光的反射和干涉效应，提高临界尺寸控制和图案一致性。 其在逻辑领域的具体应用范围涵盖了CPU、GPU、FPGA、ASIC等核心芯片的关键层光刻工艺，尤其是在晶体管栅极、接触孔、金属互连以及先进FinFET和GAA结构的图案化方面。 它在提高分辨率和工艺窗口方面起着关键作用，在高级封装、重分布层和异构集成方面有着重要的应用。

随着Logic工艺节点不断向更小尺寸和更高性能发展，未来硅抗反射涂层的发展趋势将集中在更低的反射率和更好的折射率匹配、更强的抗等离子体刻蚀能力以及与高k介质材料和新型光刻胶的高兼容性。 同时，在EUV逐渐普及的背景下，它在ArF浸没和多重图案化工艺中仍将保持关键价值。 未来，它将应用于高性能计算，人工智能和5G等应用驱动下的逻辑复杂结构和更高集成度，将进一步推动SiARC的不断创新和应用深化。

硅抗反射涂层是一种专门用于半导体光刻工艺的含硅薄膜材料。 其主要作用是抑制光刻过程中的光反射，消除驻波效应，提高图形转移的精度。 在内存制造中，特别是在DRAM和3D NAND中，这种材料是三层光刻结构（光刻胶/SiARC/碳涂层）的关键组成部分，通过其高硅含量特性提供出色的蚀刻选择性，确保高纵横比结构的精确蚀刻。 具体应用范围为晶圆制造的光刻环节，适用于ArF浸没式光刻技术。

它主要用于定义存储单元阵列的微结构、沟槽电容和堆叠通孔。 它的光学参数和热稳定性可以有效地处理由于多层堆叠而引起的表面不平整和反射干扰。 未来，随着光刻技术向更高密度和更小技术节点发展，硅抗反射涂层将面临深宽比刻蚀均匀性、多种复合叠层结构适应性和EUV光刻技术应用扩展等挑战。 同时，在中国半导体材料国产化趋势下，其市场需求有望持续增长，有助于突破国外厂商在高端光刻材料领域的垄断格局。

完整报告内容请参考QYResearch发布的《2025 -2031全球与中国硅抗反射涂层市场现状及未来发展趋势》，以获取更全面、深入的市场洞察。