氧化铈抛光液市场报告：未来几年年复合增长率CAGR为7.6%--QYResearch

本文研究氧化铈CMP抛光液，是基于二氧化铈磨料的CMP抛光液，代表性产品如日本Resonac（原Hitachi Chemical/Showa Denko）的GPX系列ceria抛光液。Resonac目前是全球最大的氧化铈抛光液生产商。

基于二氧化铈磨料的抛光液具有高速去除二氧化硅，高选择比，高平坦化效率等优点，用于集成电路制造工艺中浅槽隔离（STI）、层间电介质（ILD）和其他需要高速去除二氧化硅的抛光工艺中（主要是滤波器用）。

据QYResearch调研团队最新报告“全球氧化铈抛光液市场报告2025-2031”显示，预计2031年全球氧化铈抛光液市场规模将达到5.2亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.6%。

目前，全球氧化铈CMP抛光液，生产主要分布在美国、日本、韩国和中国台湾。其中美国是第一大生产地区，之后是中国台湾、日本和韩国。中国产起步较晚，预计2029年，中国产氧化铈CMP抛光液，占全球比重将达到30%。

消费端来看，目前核心市场主要是中国台湾、韩国、中国大陆、北美和日本等，其中中国台湾是第一大市场，中国大陆占据第二位，之后是韩国。

从产品类型及技术方面来看，目前CMP氧化铈抛光液，按主要有基于煅烧二氧化铈磨料和基于胶体二氧化铈磨料的抛光液，其中基于胶体二氧化铈磨料的抛光液，目前处于主导地位，厂商会根据自己的技术及市场定位，选择不同的制法。从产品市场应用情况来看，目前氧化铈CMP抛光液，核心应用是STI/ILD CMP，目前占据大约90%的份额，少量产品应用于SAW、BAW和FBAR滤波器的氧化物抛光，代表性用户有卓胜微等。

目前全球头部厂商包括Resonac、Merck KGaA、AGC、KC Tech和安集微电子等，2024年全球前三大厂商占有大约70%的市场份额。预计未来几年，中国厂商将占据更重要份额。目前中国本土核心厂商是安集微电子，潜在进入者包括万华化学、鼎龙控股、无锡吉致电子科技有限公司、广西立之亿新材料有限公司和上海新阳半导体材料股份有限公司等。

• 氧化铈抛光液，全球市场总体规模

 

如上图表/数据，摘自QYResearch半导体研究中心最新报告“全球氧化铈抛光液市场研究报告2025-2031”.

 

• 全球氧化铈抛光液市场前10强生产商排名及市场占有率（基于2025年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）

 

如上图表/数据，摘自QYResearch半导体研究中心报告“全球氧化铈抛光液市场研究报告2025-2031”，排名基于2024数据。目前最新数据，以本公司最新调研数据为准。

本文作者

杨军平 – 本文主要分析师

杨先生，具有11年行业研究经验，专注于半导体产业链相关领域的研究，包括半导体芯片设计、制造、封测、半导体设备及零部件、半导体材料（制造材料、封装材料）、集成电路IC、功率/分立器件等。部分研究课题如半导体芯片设计（Fabless/IDM）、制造（Foundry/IDM）、封测（IDM/OSAT）、半导体材料、半导体硅片、CMP抛光耗材、溅射靶材、光刻胶、IC载板（ABF载板）、陶瓷基板（HTCC、LTCC、DBC、AMB、DPC、DBA）、PCB、晶圆传输机器人、EFEM/Sorter、晶圆加热器、光刻设备、陶瓷部件、半导体精密洗净/熔射服务、半导体翻新/二手设备及零部件、切割减薄、硅基半导体、化合物半导体（SiC碳化硅、GaN氮化镓，衬底、耗材等）、集成电路、功率器件（IGBT、MOSFET、二极管、SiC模块及分立器件、传感器/MEMS、RF、激光器、电子陶瓷等。

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